加工设备
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磁控溅射镀膜机
联系人：刘园园
联系邮箱：liuyy@fudan.edu.cn
放置地点：江湾校区先进材料楼236A室
基础信息
设备型号：PVD 75
设备厂家：科特莱思科（Kurt J. Lesker）
主要规格及技术指标：腔体容量75L，真空度E-6，氩气流量氧气流量（最大流量139sccm），一个直流靶（最大功率1000W），一个射频靶（最大功率300W）。最大基底尺寸：四寸；最高基底加热温度：600°C。
主要功能及特色：可溅射常见金属/非金属材料，目前提供溅射的靶材有：Al、Cr、Cu、Ti、Ag、Ni、Mo、Zr、W、Ge、SiO2、ZnO、TiO2。
复旦大学材料科学系
